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        磁控镀膜机的溅射方式有哪些

        2020-09-03  来自: 肇庆高要区恒誉真空技术有限公司 浏览次数:260


          下面小编就来给大家讲讲磁控镀膜设备的溅射方式。

          主要的磁控溅射镀膜设备可以根据其特征分为以下四种:(1)直流溅射;(2)射频溅射;(3)磁控溅射;(4)反应溅射.另外,利用各种离子束源也可以实现薄膜的溅射沉积.

          现在的直流溅射(也叫二级溅射)较少用到,原因是溅射气压较高,电压较高,溅射速率小,膜层不稳定等缺点.

          直流溅射发展后期,人们在其表面加上磁场,磁场束缚住自由电子后,以上缺点均有所改善,也是现阶段广泛应用的一种溅射方法.

          而后又有中频溅射,提高了阴极发电速率,不易造成放电、靶材中毒等现象.

          而射频溅射是很高频率下对靶材的溅射,不易放电、靶材可任选金属或者陶瓷等材料.沉积的膜层致密,附着力良好.

        关键词: 磁控镀膜机           

        肇庆市高要区恒誉真空技术有限公司主要产品有:手机镀膜机,光学镀膜机,塑料镀铝机,PVD镀膜机,光学镜片镀膜机,钛金炉,多弧镀膜机,pvd真空电镀,离子镀膜机,镀钛机,陶瓷镀膜机,溅射镀膜机,卷绕镀膜机,真空镀膜机,镀膜机,离子镀,真空电镀机,真空镀膜设备等系列。


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